介绍
有三种典型的电镀处理会产生废水：
stripping,
清洗（
cleaning
）
,
和电镀
( plating
)
。
Stripping
槽中包含酸性溶液，包括硫酸，硝酸，盐酸或氢氟酸等。这些酸用来去除金属表面的污垢和氧化沉积层，以确保金属表面在电镀之前有理想的状态。清洗槽中包含有机溶剂（用来去除油或油脂）和加湿试剂。
电镀槽包含被电镀的金属溶液。这通常是一些金属盐，如三价铬，氧化镉，或铜的氰化物。从这三个过程中产生的废水主要包括的污染物是氰化物，铬酸盐，酸和碱。这篇论文主要集中讨论氰化物废水的
PH
和
ORP
监测。（北京优恩特科贸有限公司
010-67509305
）
应用
含氰化物废水是极端有害的，必须在排放之前进行处理。
处理
含氰化物废水的处理过程通常为两步。第一步是使用氧化试剂，如氯或者次氯酸钠在碱性情况下（高
PH
值），将氰化物氧化为氰酸盐（氰酸盐的毒性要比氰化物毒性小的多）。
第二步，是添加更多的氯或者次氯酸钠，但是和第一步相比，是在低
PH
值情况下，将氰酸盐氧化为二氧化碳或和氮气。
第一步
下列化学方程表示了氰化物变为氰酸盐的过程：
NaCN
+ 2NaOH + Cl2
<--->
NaCNO + H2
0
首先，通过添加强碱将
pH
调节并控制到
10
或更高。
注意
: pH10
或更高，必须保持，因为如果氰化物废水接触到酸，会释放出极端危险的氯化氰
(CNCI)
或氢氰酸
(HCN)
气体。
提高
pH
值以后
,
通过增加氧化试剂，其
ORP
值
(
氧化还原电位
)
增加到大约
(+) 250
mV
。当所有的氰化物被氧化为氰酸盐时，
ORP
监测可以看到突变
(
典型是
50 mV)
。这些反应发生于
15
到
30
分钟。
注意
:
绝对
ORP
值和
PH
改变是不同的过程。因此
pH
控制就是必要的。同时实际的
ORP
值设定点必须根据实际的情况确定。
第二步
下列化学方程式表示了氰酸盐的氧化过程：
2NaCN0
+ 4NaOH + 3Cl2
<--->
6NaCl + 2CO2
+
N2
+
2H2
0
第二步的反应过程发生在较低的
pH (8.5 to 9 pH)
情况下。这种较低的
pH
主要是由于在第一步碱的消耗，代替
NaOH
，添加酸并不是典型的减少
pH
的方法。同时，更多的氧化物被添加，直到
ORP
值增加到大约
(+) 300
mV
。记住，此值依赖于这个过程的特性，并非固定。
仪表
对于典型的两步法氰化物处理系统，在下图中予以描述：
(Figure
1
)
建议准备两个
pH
和两个
ORP
控制系统。
推荐使用平表面
pH
和
ORP
电极。可以减少清洗频率和节省更多的时间。所有的控制器必须有继电器控制输出，并且设定点可以调整和设定。推荐控制器有报警输出，以便警告操作者，当超出正常范围时。选择变送器连接
PH
和
ORP
电极，通过
PLC
控制也是一个好的选择。
对于氰化物分解处理系统，强烈推荐
ORP
传感器有金（相对于铂金）电极表面。两个重要的原因是：金电极会产生更大的毫伏电位差；并且金电极不会被废水中镉和锌毒害
•
四
pH/ORP
控制器
(
你的选择
)
•
两个
pH
传感器
(Model 970211)
•
两个
ORP
传感器金电极
(Model 970466)
结论
由于每一个废水都是唯一的，推荐分析这个影响，以确保高效的废水氰化物分解。在废水中有其它有机物和金属，可能会产生副反应，可能需要更多的氧化试剂，更长的反应时间。
氰化物废水监测产品
浸入式
pH
电极（
Submersible pH Sensors
）型号
S650CD:
适用于含氰废水的
PH
监测，美国神瑞（
sensorex
）出品（
http://www.sensor17.com/sensor17_Category_11285_1.html
）
浸入式
ORP
电极（
Submersibl ORP Sensors
）型号
S650CD-ORP:
适用于含氰废水的
ORP
监测，美国神瑞（
SENSOREX
）出品：（
http://www.sensor17.com/
）
控制器
MU2000
：（
http://www.sensor17.com/sensor17_Product_2599341.html
）德国迈格出品
010-67509305
